Produção de superfícies seletivas de ni-nio por processos químico e eletrolítico em substrato de alumínio Reportar como inadecuado




Produção de superfícies seletivas de ni-nio por processos químico e eletrolítico em substrato de alumínio - Descarga este documento en PDF. Documentación en PDF para descargar gratis. Disponible también para leer online.

Rogério Antônio Xavier Nunes ; José Roberto Tavares Branco ;Rem: Revista Escola de Minas 2009, 62 (3)

Autor: Wagner Sade

Fuente: http://www.redalyc.org/


Introducción



Rem: Revista Escola de Minas ISSN: 0370-4467 editor@rem.com.br Escola de Minas Brasil Sade, Wagner; Nunes, Rogério Antônio Xavier; Branco, José Roberto Tavares Produção de superfícies seletivas de Ni-NiO por processos químico e eletrolítico em substrato de alumínio Rem: Revista Escola de Minas, vol.
62, núm.
3, julio-septiembre, 2009, pp.
361-365 Escola de Minas Ouro Preto, Brasil Disponível em: http:--www.redalyc.org-articulo.oa?id=56416739015 Como citar este artigo Número completo Mais artigos Home da revista no Redalyc Sistema de Informação Científica Rede de Revistas Científicas da América Latina, Caribe , Espanha e Portugal Projeto acadêmico sem fins lucrativos desenvolvido no âmbito da iniciativa Acesso Aberto Wagner Sade et al. Metalurgia & Materiais Produção de superfícies seletivas de Ni-NiO por processos químico e eletrolítico em substrato de alumínio (Production of Ni-NiO selective surfaces by chemical and electrolitic processes over aluminum substrate) Resumo Recobrimentos de Ni-NiO em substrato de alumínio têm sido utilizados para se desenvolverem superfícies seletivas com alto desempenho para aplicações fototérmicas.
Industrialmente essas superfícies têm sido empregadas em coletores solares.
No presente trabalho, amostras de alumínio foram recobertas com Ni-NiO por processos químico e eletrolítico seguidos de tratamento térmico para oxidação. Os filmes foram produzidos em camada dúplex, sendo a primeira constituída de Ni e a segunda de NiO, a camada de anti-reflexão (AR).
As espessuras dos filmes depositados têm cerca de 1,0µm.
As microestruturas das amostras foram examinadas ao microscópio eletrônico de varredura (MEV).
Análises de difração de raios X (DRX) identificaram as fases presentes.
As amostras foram caracterizadas quanto às propriedades óticas nas regiões do visível e do infravermelho próximo.
A absortância solar média dos recobrimentos eletrolíticos oxidados atingiu picos de 97...





Documentos relacionados