Cabrera Sánchez, Edna Abril - Anexo 3. Tiempo de secado utilizando resistencia infrarroja de 1000 W - Determinación de los parámetros óptimos del proceso de recubierto del chiReportar como inadecuado




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Cabrera Sánchez, Edna Abril - Anexo 3. Tiempo de secado utilizando resistencia infrarroja de 1000 W - Determinación de los parámetros óptimos del proceso de recubierto del chicle tipo A mediante técnicas de regresión lineal -- Maestría en Administración de la Manufactura. - Departamento de Ingeniería Industrial y Textil. - Escuela de Ingeniería%


Introducción



ANEXO 3 Tiempo de secado utilizando resistencia infrarroja de 1000W No ciclo WATTS ANGULO INCIDENCIA ° VELOCIDAD AIRE CFM TEMPERATURA °C TIEMPO SECADO STD.
Min 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12 13 14 15 16 17 18 19 20 21 22 23 24 25 26 27 28 29 30 31 32 33 34 35 36 37 38 39 40 41 42 43 44 45 46 650 650 650 650 650 650 650 650 650 650 650 650 650 650 650 650 650 650 650 650 650 650 650 650 650 650 650 650 650 650 650 650 650 650 650 650 650 650 650 650 650 650 650 650 650 650 30 30 30 30 30 30 30 30 30 30 30 30 30 30 30 30 30 30 30 30 30 30 30 30 30 30 30 30 30 30 30 30 30 30 30 30 30 30 30 30 30 30 30 30 30 30 622.66 626.76 622.66 608.97 598.71 591.87 598.71 573.05 580.92 574.76 588.45 549.44 538.50 553.55 534.73 535.07 613.42 549.79 488.20 546.71 543.97 534.73 577.16 573.05 574.76 576.47 460.15 512.49 513.18 549.44 545.34 576.47 548.08 595.97 595.29 513.18 545.34 552.87 519.34 492.65 533.71 574.76 543.97 529.60 485.81 529.94 32.6 33.8 34.7 33.8 33.5 32.9 33.9 33.1 32.4 32.3 31.6 32.6 32.1 31.7 31 31.9 32.3 32.1 31.8 32.2 32 32.2 32.4 32.4 32.3 32 31.7 31.4 32.2 31.9 31.6 32.3 31.4 32.1 31.5 31.2 31 32.4 33.2 33.5 33.1 32.3 32.5 32.7 31.4 32.3 4 4 5 6 5 6 7 7 7 7 7 7 7 7 7 7 7 7 7 7 7 7 7 7 7 8 8 8 8 8 8 8 8 7 7 7 7 7 7 6 5 5 5 4 4 4 ...






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