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1 LCPMR - Laboratoire de Chimie Physique - Matière et Rayonnement

Abstract : The radiation domain of extreme ultraviolet EUV has great potential in science and technology in photolithography, astrophysics, photoelectron spectroscopy, etc

Indeed, many multilayer mirrors have been developed to operate in this spectral range, which is important for optical applications. The objective of this work is to design, deposit, characterize and propose the multilayers Mg-Co, Al-SiC,



Then the aim is to apply a method to distinguish between interdiffusion and geometric roughness in order to correlate the optical performance to the multilayer structural quality. We propose to characterize the multilayer mirrors using a methodology combining several techniques X-ray emission spectroscopy, EUV reflectivity,



The combination of these methods provides a chemical and structural description of the multilayer and necessary to understand the phenomena taking place at the interfaces. It is important to know the interfacial phenomena, such as the formation of compounds or the development of roughness, as they govern the optical properties of multilayers.

Résumé : Le domaine du rayonnement extrême ultraviolet EUV offre de grandes possibilités scientifiques et technologiques en photolithographie, en astrophysique, en spectrométrie de photoélectron, etc. Ainsi, de nombreux miroirs multicouches sont développés pour fonctionner dans ce domaine spectral, qui joue un rôle important pour les applications optiques. L-objectif de ce travail est de concevoir, réaliser, caractériser et proposer des multicouches Mg-Co, Al-SiC,



Puis le but est d-appliquer une méthode capable de distinguer entre interdiffusion et rugosité géométrique afin de corréler les performances optiques de la multicouche à sa qualité structurale. Nous proposons de caractériser les miroirs multicouches en employant une méthodologie combinant plusieurs techniques Spectroscopie d-émission X, Réflectométrie EUV,



La combinaison de ces méthodes permet d-obtenir une description chimique et structurale de l-empilement multicouche et de comprendre les phénomènes prenant place aux interfaces. Il est en effet important de connaître les phénomènes interfaciaux, comme la formation de composés ou le développement de la rugosité, car ils gouvernent les propriétés optiques des multicouches.

en fr

Keywords : EUV and X-ray Optics multilayers roughness annealing X-ray Emission Spectroscopy XES X-ray and EUV Reflectivity Nuclear Magnetism Resonance Spectroscopy NMR Time-of-Flight Secondary Ion Mass Spectrometry ToF-SIMS Focused Ion Beam FIB Scanning Transmission Electron Microscopy STEM Electron Energy Loss Spectroscopy EELS.

Mots-clés : Optique des rayons X et extrême ultraviolet multicouches interfaces diffusion rugosité recuit Spectroscopie d-Emission X XES Réflectométrie X durs XRR Réflectométrie EUV Spectroscopie de Résonance Magnétique Nucléaire RMN Spectrrométrie de Masse d-Ions Secondaires par Temps de Vol ToF-SIMS Faisceau d-Ions Focalisés FIB Microscopie Electronique à Balayage en Transmission STEM Spectroscopie de Perte d-Energie des Electrons EELS.





Autor: Minhui Hu -

Fuente: https://hal.archives-ouvertes.fr/



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