Étude dune décharge à haute pression ionisée par un faisceau délectrons à haute énergieReportar como inadecuado




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Résumé : L-objectif ultime de cette étude est de connaître en détail la structure du plasma dans un laser à ionisation par faisceau d-électrons. Dans la première partie du travail présenté ici, nous considérons la partie ambipolaire n+ = n- du plasma en tenant compte de la source uniforme S, de l-ionisation autonome vi n, de la recombinaison αn2, de l-attachement β n, de la diffusion Da Δ2n, et d-un courant appliqué J, tous les coefficients étant constants. Nous obtenons ainsi des formules fermées pour la densité électronique nx et la caractéristique VJ de cette partie du plasma. Dans les conditions usuelles pour les applications, le courant continu J ne provient pas de la source S mais de l-émission cathodique γJ+. Nous développons dans la deuxième partie une théorie nouvelle de la chute cathodique qui ne repose pas sur le coefficient αi de Townsend. Nous déduisons l-ionisation iV du flux Φu, V des électrons dans l-espace des énergies cinétique u et potentielle Vx. L-équation différentielle du premier ordre pour le flux Φ dépend des sections efficaces Qu élastique, inélastiques, et d-ionisation, et comme celles-ci sont des données expérimentales, la résolution nécessite un ordinateur. Ceci est en préparation.

Keywords : electron ionisation plasma diagnostics Townsend discharge high pressure ionized discharge high energy electron beam electron beam ionization laser plasma structure autonomous ionization recombination attachment diffusion applied current electron density cathode drop Townsend coefficient





Autor: W.P. Allis

Fuente: https://hal.archives-ouvertes.fr/



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