Amorphous silicon photonic crystals made with 193nm lithographyReportar como inadecuado




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(2009)International Photonic and Electromagnetic Crystal Structures Meeting, 8th, Abstracts. Mark

Please use this url to cite or link to this publication: http://hdl.handle.net/1854/LU-748103



Autor: shankar kumar Selvaraja , Wim Bogaerts , Pieter Dumon, Dries Van Thourhout and Roel Baets

Fuente: https://biblio.ugent.be/publication/748103



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