Crecimiento de nanoestructuras 1D de silicio y carbono por CVD catalítico: nanohilos de SiOx, nanocables SiC-SiOx, nanotubos de carbono - Nanostructuras - Tesis doctorales; Nanotecnología - Tesis doctoralesReportar como inadecuado




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Autor: López-Camacho Colmenarejo, Elena

Tutores: Gómez-Aleixandre Fernández, Cristina (dir.); Fernández Rodríguez, Mercedes (dir. dir.)

Lugar: Universidad Autónoma de Madrid. Departamento de Física Aplicada

Fecha de publicación: 2008

Área: Nanostructuras - Tesis doctorales; Nanotecnología - Tesis doctorales

Notas: Tesis doctoral inédita. Universidad Autónoma de Madrid, Facultad de Ciencias, Departamento de Física Aplicada. Fecha de lectura: 05-06-08





Autor: López-Camacho Colmenarejo, Elena

Fuente: https://repositorio.uam.es


Introducción



UNIVERSIDAD AUTÓNOMA DE MADRID FACULTAD DE CIENCIAS DEPARTAMENTO DE FÍSICA APLICADA CRECIMIENTO DE NANOESTRUCTURAS 1D DE SILICIO Y CARBONO POR CVD CATALÍTICO Nanohilos de SiOx, Nanocables SiC-SiOx, Nanotubos de carbono TESIS DOCTORAL ELENA LÓPEZ-CAMACHO COLMENAREJO DIRECTORAS: DRA.
CRISTINA GÓMEZ-ALEIXANDRE FERNÁNDEZ DRA.
MERCEDES FERNÁNDEZ RODRÍGUEZ INSTITUTO DE CIENCIA DE MATERIALES DE MADRID (CSIC) DEPARTAMENTO.
DE FÍSICA E INGENIERÍA DE SUPERFICIES Madrid, Marzo 2008 Dpto.
de Física Aplicada C-XII Facultad de Ciencias Universidad Autónoma de Madrid Dpto.
de Física e Ingeniería de Superficies Instituto de Ciencia de Materiales de Madrid Consejo Superior de Investigaciones Científicas CRECIMIENTO DE NANOESTRUCTURAS 1D DE SILICIO Y CARBONO POR CVD CATALÍTICO Nanohilos de SiOx, Nanocables SiC-SiOx, Nanotubos de carbono Memoria presentada por Elena López-Camacho Colmenarejo En la Facultad de Ciencias de la Universidad Autónoma de Madrid para optar al grado de DOCTORA EN CIENCIAS QUÍMICAS Madrid, Marzo 2008 Motivación y objetivos del trabajo Este trabajo ha sido desarrollado en el Departamento de Física e Ingeniería de Superficies del Instituto de Ciencia de Materiales de Madrid perteneciente al CSIC, bajo la dirección de las Dras.
Cristina Gómez-Aleixandre y Mercedes Fernández Rodríguez. El trabajo del grupo está centrado fundamentalmente en el estudio de los procesos de síntesis mediante técnicas químicas en fase de vapor, y caracterización de materiales avanzados.
Entre los materiales estudiados interesa señalar el óxido y nitruro de silicio, de gran interés en el ámbito de Microelectrónica, y otros como el carbono tipo diamante (DLC), diamante, nitruro de boro y compuestos ternarios basados en nitruro de boro de amplia utilización en el área de los recubrimientos protectores de alta dureza.
Todos ellos sintetizados en forma de capa delgada mediante técnicas de deposición química en fase de vapor. En los últimos...






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